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薄膜・プラズマ・表面工学

モデルHPR-30

モデルHPR-30は、真空プロセスおよび真空診断のガスおよび蒸気の分析用に構成された残留ガス分析計です。このシステムは、CVD、プラズマエッチング、MOCVD、プロセスガス純度、およびプロセス中の汚染物質モニタリングなどの個々のプロセスアプリケーションに対して構成可能です。
質量範囲 200、300、または510 amu
真空プロセスガス組成の測定 可能
汚染の測定とリーク検出 可能
最小検出濃度 5 PPB
サンプル入口圧力(標準) 0.1 〜500Pa
サンプル入口圧力(オプション) <1E -2 Pa
高速測定速度 最大500回/秒の測定
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モデルEQP

モデルEQPシステムは、分析用のプラズマイオン、中性粒子およびラジカルのための質量分析計とエネルギー分析器を組み合わせたものです。EQP機器は、正イオンおよび負イオン分析のための操作モードを含む。閾値電離および電子付着イオン化モードは、電気陽性および陰性プラズマラジカルの両方の分析のための詳細な中性ラジカル研究に利用可能です。
モデルEQPシステムは、オプションで、50ナノ秒までの時間分解能を備えた統合型MCS - マルチチャネルスカラーデータ収集で利用可能になり、パルスプラズマアプリケーションでの高速データ収集が可能になりました。
質量範囲 300、510、1000または2500amu
イオン分析 正負イオン
ガス分析 中性子と中性ラジカル
プラズマ圧力(標準) 最大0.5mbar
プラズマ圧力(オプション) 最大2mbar、100mbarおよび大気圧
サンプリングオプション DCおよびRFバイアスされたサンプリング電極
イオンエネルギー解析範囲 100eVまたは1000eV
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PSM

Hidenプラズマプローブは、重要なプラズマパラメータのいくつかを測定し、プラズマ反応化学に関する詳細な情報を提供する。
質量範囲 300または510 amu
イオン分析 正イオン
イオン分析 - オプション 負イオン
ニュートラル分析 中立および中性ラジカル分析
プラズマ圧力 最大0.5mbar
エネルギー解析範囲 100eV
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